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卷对卷电浆辅助化学气相沉积系统-定制
系统设计与机台和设备组装为主,,脉冲激光蒸镀系统、原子层沉积(ALD)和铜铟镓硒(CIGS)真空成膜系统,并掌握关键的制程技术,进而成功开发具有超高真空(UHV)的真空腔体设备,且真空度测试可达到10-10 Torr左右。
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