无尘室用除湿机 除湿机企业新闻资讯报道：现在的电子厂，制药厂以及食品厂等工厂企业的很多产品都需要在无尘室中进行加工储存，才能确保其出厂品质的达标；而无尘室相对于一般的车间生产环境，在温度，湿度以及洁净度等各个方面都有着更高的要求；比如在湿度方面：

虽然高湿度有利于消除静电，减少粉尘等，但并不是湿度越高越好，需要掌握这个度，将相对湿度控制在40%-50%RH之间可以作为一个令人满意的折中范围；因此，在湿度较高的梅雨季节需要安装正岛ZD-8240C及ZD系列无尘室用除湿机，将湿度降低到这一范围之内，确保无尘室拥有一个*适宜的湿度环境！

欢迎您来电咨询无尘室除湿机，无尘室用除湿机，工业除湿机厂家的详细信息！工业除湿机的种类有很多，不同品牌的工业除湿机价格及应用范围也会有细微的差别，而我们将会为您提供和全方位的售后服务。

正岛ZD-8240C无尘室用除湿机技术参数：

查看更多无尘室用除湿机，仓库防潮除湿机，无尘室用除湿机厂家的详细信息尽在：正岛电器

正岛ZD-8240C及ZD系列无尘室用除湿机产品六大核心配置优势：

您可能还对以下内容感兴趣...

1. 工业抽湿机(ZD-8138C)

2. 工业干燥机(ZD-8166C)

3. 车间除湿机(ZD－890C)

4. 仓库抽湿机(ZD-8168C)

5. 仓库除湿机(ZD-8240C)

工业用除湿机厂家记者核心提示：相对湿度是无尘室运作过程中的一个非常重要的环境控制条件。在电子行业，一些精密电子产品生产储存的无尘室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在40-50%RH的范围内，在没有特殊要求的情况，误差则可以放松到±5%的范围内。目前已经有不少行业的无尘室中都使用正岛ZD-8240C及ZD系列无尘室用除湿机，实现了这一湿度控制标准！以上关于无尘室除湿机，无尘室用除湿机，工业除湿机厂家的**相关新闻资讯是正岛电器为大家提供的！

您可以在这里更详细地了解无尘室用除湿机的**相关信息：

无尘室的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

净化工程具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。

例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

　　湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。

相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产**温度范围为35—45%。

到目前为止，在半导体无尘车间、洁净室中*迫切需要适当控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是*严格的水准。

　　实际上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。参考两个城市，一个试验证实，相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2A(原文如此)。

　此外，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负面影响；较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲基二硅氮烷(HMDS)。

　　总而言之半导体无尘车间、洁净室中控制相对湿度不是随意的。但是，随着时间的变化，**回顾一下常见的被普遍接受的实践的原因和基础。