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ETD-2000III型三靶离子溅射仪
是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的*简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶，旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。
工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得**镀膜效果。
配有高位定性的飞跃真空泵
The ETD-2000III type three target ion sputtering apparatus is the simplest， reliable and economical coating equipment designed on the basis of DC (DC) sputtering principle. This machine is specially designed to install three targets in a vacuum chamber. The rotating sample stage can be coated with three materials on the same sample in turn. Therefore， it is suitable for the preparation of various composite membrane samples and the fabrication of experimental electrodes for non conductor materials. It is easy to control the vacuum chamber pressure， ionization current and choose the required ionization gas when working in conjunction with the internal automatic control circuit， so as to achieve the best coating effect. High qualitative jump vacuum pump
| 溅射气体 | 溅射靶材 | 溅射电流 | 溅射速率 | 样品仓尺寸 | 样品台尺寸 | 工作电压 |
| 根据实验目的可添加氩气，氮气等多种气体。 | 标配靶材为金靶，厚度为50mm*0.1mm。也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。 | **电流 50mA，**工作电流30mA | 优于40nm/min | 直径160mm，高120mm | 样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台 | 220V (可做110V)， 50HZ |
需要镀膜的样品
| 电子束敏感的样品 | 非导电的样品 | 新材料 |
| 主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤； | 由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料增加信噪比，从而获得更好的成像质量。 | 非导电材料实验电极制作观察导电特性 |
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