ETD-3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，*简单、可靠、经济的镀膜设备。

适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。

1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；

2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得**镀膜效果；

3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；

4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用；

5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。

配置参数如下：

2主机规格：L360mm*W300mm*H380mm

2靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.1mm

2真空样品室： 直径：160mm，高：120mm

2溅射面积： Ф50mm

2真空指示表： **真空度：≤ 4X10-2 mbar

2离子电流表： **电流：100mA

2定时器： *长时间：3600S

2微型真空气阀： 可连接φ3mm软管

2可通入气体： 多种

2**电压： -3000 DCV

2机械泵： 2L/S