SVTA-VC-45 裂解源包括As、P、Sb、Te、Se、S等。

As裂解源用于生长高质量的III-V材料薄膜，拥有**的裂解效率和**的束流均一性。其独特地设计在于两个独立的可控加热区：体蒸发区和产生纯AS₂束流的裂解区。集成于体蒸发区及阀门的水冷却套管可有效冷却整个裂解源。

SVT锑裂解源可在超高真空环境下提供有效、可靠的超纯锑束流。锑裂解源有3个独立可控的加热区，水冷却覆盖了体蒸发器、阀门、高纯裂解管和PBN容器。标准配置的锑裂解源采用手动控制针阀。计算机控制针阀装置可选，用于远程控制束流。源在运往客户前都经过测试和表征，包括SVT配件。

SVT磷裂解源可在超高真空环境下提供有效、可靠的超纯磷束流。磷裂解源有3个独立可控的加热区并带有热隔离，实现红磷与白磷之间的原位转变以及重复蒸发。所有加热器确保正常除气。水冷却可以促进存储容器里的材料凝结。全金属的针阀操作期间可以快速调整束流。磷源在高温裂解区裂解成P₂束流。

为保证超纯的操作环境，坩埚和裂解管都使用高纯材料。可选的计算机控制阀门（SVTA-VC-ACM）可以使拓展束流多样性。它在生长过程中精确、快速地控制阀门。阀门功能可以集成在RoboMBE软件中。此阀门不但有助于材料生长质量和工艺重复性的提高，而且在生长室充气至大气压下添加其它源材料时，避免砷材料被氧化。

SVT公司提供200cc及500cc的容量。