美国NXQ以**的性能，经济的价格，深受全球用户喜爱，截至2016年底，超过5000台NXQ曝光系统遍布全世界科研实验室，研发中心。

NXQ4000系列半自动掩膜对准曝光系统，融合了独立的模块化设计，精准控制对准和曝光等特点，自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用，适合实验室多用户使用。

该系统特点：

• 锲型误差补偿系统----独特的WEC设计

• 紫外灯源的多样性选择

• 曝光光路的精准控制

• 视像分辨技术------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切换

• 高效对准控制-----可选配IR或OBS双面对准

使用领域（包括但不限于下述领域的光刻工艺）

• 微电子

• LED/HBLED

• 3D IC /晶圆制造工艺

• 2.5D Interposer

• MEMS

• BioMEMS

• 微流控芯片

• 化合物半导体

• 太阳能（HCPV）

• 光电子

型号：

• NXQ4006半自动型（可处理**6英寸基片）

• NXQ4008半自动型（可处理**8英寸基片）