HTHP原位高温/高压三模式反应池

在极端条件下进行的原位分析附件，三种测试模式

产品简介

高科技产品和现代工业生产过程需要在极端温度和压力条件下的原位分析。Specac的高温高压池在全世界应用非常稳定，效果出色，能解决非常复杂的实验需要。

Specac高温/高压池有能力再创造这些条件，进行光谱分析样品或模拟实验室的过程。

此原位高温高压池可提供三种模式测试，针对催化剂表征，吡啶吸附，原子沉积，黑体辐射都能轻易胜任。

样品池设计用于高光学通量，并允许在多种目的分析配置、透射、反射和双重之间进行简单交换(见图1，2，3)。

主要特征

极端条件光谱仪--可编程控制温度**可达800℃ ，压力范围从真空到1000psi

多目的分析仪--透射、反射和双重模式

双重加热系统，窗片以及加热池分开加热控制，防止气体冷凝

4路气口，3路进气一路出气，分别控制，可进行复杂，分时反应

透射模式可采用压片，薄膜等

燃烧模式提供燃烧池，可进行燃烧后的气体红外组分分析

反射模式可进行针对透射能量较弱，反应样品颜色较深，以及吸收不好的情况

采用特种合金钢，加热主体对吡啶类难易清洗的物质没有吸附

可更换窗片以及承压的蓝宝石窗片进行高压反应

优化设计--允许在分析模式之间进行简单交换

安全和可靠的结构--坚固耐用的结构、经过安全验证的电子器件以及安全隔膜

应用范围

ü组件失效分析

ü分解研究

ü原位反应监测

ü表面反射率测试

ü过程气体分析，催化反应，吡啶吸附，黑体辐射

典型的应用如下：

q催化剂和氧化还原反应，在特定温度和特定压力下气体会在固体表面发生反应，我们可以用红外光谱记录整个反应过程。

q样品在不同的物理状态下具有多态性。

q固体燃料，即煤和油，在加热下挥发的蒸汽可以进行定性和定量分析。

q高温高压对气体/蒸汽的影响。

q高温高压对固体物质的透射和反射产生的影响。

特性及操作

高温/高压池可以使用透射、镜面反射和双重模式来分析固体样品，以及静态或流动传输模式的过程气体。样品温度可高达800℃，样品池可在真空到1000psi压力下使用。

样品池窗片和主体可独立加热和控制到高达200℃的温度，可阻止内部的材料凝结后附着到ZnSe窗片上。水冷上下部分阻止对光谱仪样品仓内的样品过度加热，维持表面在一个安全的温度。

可通过更换样品池主体上的光学加压窗片组件并安装到基板上来进行透射(**样品尺寸13mm)和镜面反射模式切换。

简单的重新定位样品支架/加热器组件，将加热的样品放到光束下的器皿中，即可获得分解模式。样品在不同温度得到的气体可以被分析出来。样品池可为气体分析或清洗提供稳定的气流。样品池体积为80ml。

样品池温度使用一个可手动或通过计算机编程的专用的控制器来调节。设计结合了一系列重要安全特征。尤其是，样品池的所有的电源供应都符合加拿大标准协会(CSA)规定(30V或更低)，温控器在热电偶输入上安装有开路探测可阻止过热。

样品池本身安装了一个安全隔板可防止偶然的过压，如有需要，其可以安装到通风橱中或其他地方。标准的样品池是耐用的316不锈钢制成的，如有需要可以拆开进行彻底的清洁。

订购信息

GS05850高温/高压池不含反射附件

包括:带ZnSe窗片的光学器件单元和仪器基板、透射/双重样品支架，可

编程高稳定性温控器。

请指定光谱仪制造厂家和型号。

GS05855高级高温/高压样品池系统含反射附件

包括:带ZnSe窗片的光学器件单元和仪器基板、透射/双重样品支架，

反射模式楔形加压窗片组件和反射模式基板，可编程高稳定性温控器。

请指定光谱仪制造厂家和型号。

GS05860反射模式套装

包括:可将GS05850 HTHP样品池转化成高级的HTHP样品池(GS05855)

的部件套装

GS05865密封套件备件

GS05867 ZnSe样品池窗片备件 (经过测试和认证的)

GS05868分解盘--备用件(2个)

GS05869"安全隔板"备件

可选项

GS05870 HTHP样品池ESK

GS28000 RS232连接包

GS28001 USB连接包

GS28002 RS485连接包