原子层沉积技术

NLD-4000（ICPM）PEALD系统概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供**的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。

NLD-4000（ICPM）PEALD系统特点：NLD-4000（ICPM）是一款紧凑型独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计，并提供了强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3， AlN， TiN， ZrO2， LaO2， HfO2，等等）。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-4000（ICPM）系统提供12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。

NLD-4000（ICPM）PEALD系统选配：NLD-4000（ICPM）系统的选配项包含自动L/UL上下载(用于6”基片)，臭氧发生器，等等。

NLD-4000（ICPM）PEALD系统应用：

• Oxides氧化物: Al203， HfO2， La2O3， SiO2， TiO ZnO， In2O3，etc

• Nitrides氮化物: AlN， TiN， TaN， etc..

• Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS应用.

• Nano laminates纳米复合材料

NLD-4000在6”晶圆片上的均匀性数据

周期：100个周期(TMA + H2O)

均匀度：0.36%

温度：200°C

折射率：1.68

周期：300个周期（TMA + H2O）

均匀度：0.27%

温度：200°C

折射率：1.67