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产品简介
四氟化碳(CF4) | |
化学式 | CF4 |
中文名称 | 四氟化碳 |
英文名称 | Carbon tetrafluoride |
CAS No. | 75-73-0 |
分子量 | 88.005 |
充装量 | 13.5Mpa(21.1度) |
应用 | 四氟化碳是目前半导体产业中用量**的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-H2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。 |
产品规格 | ≥99.999% |
四氟化碳,又称为四氟甲烷、Freon-14及R 14,是一种卤代烃(化学式:CF4)。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳,也可被视为一种无机化合物。
-198 °C时,四氟化碳具有单斜的结构,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。
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