看了磁控溅射镀膜机(Sputter)的用户又看了
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仪器特点:
腔体材料:不锈钢,铝,或者Bell Jar;
分子泵:70,250,500 l/sec; 一级泵:机械泵或干泵;
13.5MHz, 300-600W射频电源;1KW直流电源;
QCM在线厚度测量,厚度分辨率<0.1nm;
带有观察窗的门,方便样品取放;
Labview软件,PC控制;
多重密码保护;
全安全互锁设计;
选配功能:
向上,向下,侧向溅射;
射频,直流、脉冲直流溅射;
共溅射,反应溅射;
组合溅射;
射频、直流偏置(1000V);
基底加热:不高于700摄氏度;
厚度监控;
基底射频等离子清洗;
Load-Lock,以及自动样品取放;
不同型号选择:
NSC系列,立式磁控溅射系统;
NSC系列,立式紧凑磁控溅射系统;
NSC系列,台式磁控溅射系统;
双腔体系统,NSR系列,磁控溅射+反应离子刻蚀(RIE);
双腔体系统,NSP系列,磁控溅射+PECVD;
双腔体系统,NST系列,磁控溅射+热蒸发;
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