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SEM5000X品牌
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SEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜,其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。高分辨物镜设计、高压隧道技术(SuperTunnel)以及镜筒工艺升级,实现了低电压分辨率的进一步提升。全新设计的样品仓,扩展接口增加至16个,快速换样仓**支持8寸晶圆(**直径208 mm),极大扩展应用范围。高级扫描模式和自动功能增强,带来了更强的性能和更好的体验。
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摘要:硬脂酸镁是制药界广泛应用的药物辅料,因为具有良好的抗粘性、增流性和润滑性在制剂生产中具有十分重要的作用,作为常用的药用辅料润滑剂,比表面积对硬脂酸镁有很大的影响,硬脂酸镁的比表面积越大,其极性越
2022-07-05
陶瓷材料具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等一系列特点,被广泛应用于电子工业、汽车工业、纺织、化工、航空航天等国民经济的各个领域。陶瓷材料的物理性能很大程度上取决于其微观结构,是扫描电镜重要的应用领
2022-09-27
4月9日,“国仪电镜论坛暨内蒙古工业大学国产电镜技术讲座”在内蒙古工业大学实验管理中心(测试中心)成功举办,吸引了来自周边院校的多位电镜领域专家学者参与。本次论坛以“国产电镜的发展与机遇”为主题,聚焦
4月1日,由湖南大学分析测试中心与国仪量子联合主办,深圳速普仪器有限公司、长沙凯普乐科技有限责任公司协办的“国仪电镜论坛暨湖南大学电子显微技术交流会”在湖南大学分析测试中心成功举行。本次会议吸引了湖南
引言 为更好地激励在科研领域辛勤探索、努力拼搏的科研工作者,同时助力光探测磁共振事业发展,国仪量子决定对使用本公司ODMR系列产品,发表高水平学术文章的科研工作者给予现金奖励。2025年OD
国仪量子电镜在芯片金属栅极刻蚀残留检测的应用报告一、背景介绍 在芯片制造工艺中,金属栅极刻蚀是构建晶体管关键结构的重要环节。精确的刻蚀工艺能够确保金属栅极的尺寸精度和形状完整性,对芯片的性能
国仪量子电镜在芯片后道 Al 互连电迁移空洞检测的应用报告一、背景介绍 随着芯片集成度不断攀升,芯片后道 Al 互连技术成为确保信号传输与芯片功能实现的关键环节。在芯片工作时,Al 互连导线
国仪量子电镜在芯片钝化层开裂失效分析的应用报告一、背景介绍在半导体芯片制造领域,芯片钝化层扮演着至关重要的角色。它作为芯片的 “防护铠甲”,覆盖在芯片表面,隔绝外界环境中的湿气、杂质以及机械应力等不利