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喷射化学气相沉积(Spray CVD)
产地：法国AS；
- 主要用于太阳能电池氧化物、半导体、电光涂层、绝缘层、超导体、固体燃料电池等的材料制备及薄膜沉积。
- 2inch小型喷射化学气相沉积设备，主要用于实验室。沉积及退火在同一个腔体内完成。
性能和特点：
- 温度范围：室温 ~ 1200摄氏度;
- *快升温速度：250摄氏度/秒;
- 前驱体混合能力(带有Atokit喷雾器);
- **真空度：10-6 Torr;
- 样品尺寸：不大于2英寸;
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