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PLUTO-M型等离子体表面处理系统是针对于高校,科学研究所和企业实验室,或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。我们收集了大量客户使用信息,分析应用需求,将多年设计和制造经验应用于小型化,多功能的等离子体表面处理设备。无论是设计理念,零配件的选用,都倾注大量精力。
针对用户不同的需求,我们提供对应配件,在获得常规性能的同时,拥有表面镀膜(涂层),刻蚀,等离子化学反应,粉体等离子体处理等多种能力。
产品特点:
等离子源采用频率为13.56MHz射频发生器,同时具备物理清洗和化学清洗能力。
电源功率为200W,覆盖常规处理需求
创新设计,可调整电极之间距离,调整等离子体浓度和强度,极大提升处理效率和能力
真空腔体和管道连接件均采用316不锈钢,电极6061航空铝合金,配件材质精良,保证设备稳定高效运行
样品处理面积可达125mm(处理面积可达200mm,如有需求请咨询销售人员)
4.3寸工业级触摸屏,操作简单,可设置多种实验参数
性能稳定可靠,质量稳定,自主研发,售后有保障
产品参数:
1.真空腔规格: 316不锈钢腔体,直径210mm*(深)230mm 约4L
2.电极:两个自适应平板电极,材质T6061铝合金
3.电极尺寸:120*135mm 间距20~75mm 可调
4.等离子体发生器:RF射频发生器,频率:13.56MHz
5.功率:0-200W连续可调,精度1W
6.气体控制:针式气体流量阀,标配1路气体
7.控制方式:4.3寸工业控制触摸屏
控制软件功能:界面显示实时工作状态,
可显示设置值与实际值,便于实时控制。
可自由设置等离子功率,通入气体时间
全手动控制和全自动控制可选
8.保护装置:一键急停保护按钮
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