IoN 系列等离子机具有多种射频电源选项，可满足客户的特定工艺和产量要求。 我们提供不同腔体和电极配置，**腔体可达 1200 升。

IoN系列等离子系统是一种高效的工艺设备，能够满足客户在特定工艺和产量方面的需求。该系列设备具备多种射频电源选项，能够灵活应对不同的工艺要求。不仅如此，我们还提供多种腔体和电极配置选择，其中**腔体可容纳1200升的处理物料。

作为晶圆清洗去胶领域的专家，我们提供了无损晶圆清洗去胶系统。这款设备采用了射频等离子扫胶技术，能够高效、彻底地去除晶圆上的胶体杂质。同时，我们还开发了射频等离子清洗机，它能够将晶圆置于等离子环境中进行全面清洗，确保晶圆表面的无尘无杂质。此外，我们还推出了等离子射频去胶机，这款设备能够通过等离子技术将胶体杂质快速有效地去除，为客户提供高品质的清洁解决方案。

无论是晶圆清洗去胶系统还是射频等离子扫胶机、射频等离子清洗机，我们始终致力于为客户提供**的产品质量和优质的服务体验。我们的产品具备先进的技术和稳定的性能，能够满足客户对于清洗去胶的各种需求。我们将继续不断创新，不断提升产品性能，为客户提供更好的晶圆清洗去胶解决方案。