化学抛光

推荐这些影响稀土铈基磨料的的抛光效率的因素，值得关注！

中国粉体网讯 化学机械抛光（CMP）技术是实现材料全局表面平坦化的重要手段，稀土铈基磨料因其具有颗粒硬度适中、可与被抛光材料发生化学反应、可回收性和资源丰富等优势是目前应用最广泛的CMP磨料。在稀土材料用于抛光粉之前，人们通[更多]