氧化硅改性

推荐氧化硅抛光材料的制备、改性及应用

中国粉体网讯 氧化硅因具有硬度适中、分散性好、稳定性好、易储存等优点成为CMP磨料的首选。在精抛过程中，大尺寸颗粒的氧化硅磨料容易在硅片上产生划痕和抛光雾等缺陷，而粒径尺寸小（＜50nm）的氧化硅磨料可以实现硅片的全局平坦化[更多]