中国科学院半导体研究所

推荐标准征求意见！2项AlN晶片相关标准征求意见！

中国粉体网讯 近日，由奥趋光电技术（杭州）有限公司牵头起草的标准T/CASAS 053—202X《氮化铝晶片位错密度检测方法腐蚀坑密度测量法》、由中国科学院半导体研究所牵头起草的标准T/CASAS 054—202X《氮化铝晶[更多]