技术参数：

Rave 成立于1996，是专业从事开发和生产先进光罩修复（Advanced Mask Repair）及光罩雾化污染去除系统 ( Haze Removal)的设备供应商。目前，Rave在光罩领域的市场占有率已达到世界**，成为了这一行业的***和开拓者。

主要特点：

光罩雾化污染去除系统 Rhazer

◆雾化污染的去除率高：100% （只去除污染物，无需去除表面薄膜），无相位角损失；

◆光罩材料：Chrome， MoSi， Quartz； 尺寸：150mm x 150mm x 25mm；

◆高效：干法工艺，无需除去薄膜；

◆低CoO：极大地提高了Haze污染的管理效率和光罩使用周期，提升良率；

◆全自动化运行，占地面积小，无有害气体或液体，无需消耗去离子水、酸液等化学品。

先进光罩修复系统nm450

◆适用于各种类型的纳米级光罩的修复并有助于32nm光罩的研发；

◆独立的材料合成以及材料接触面控制（Chrome， MoSi， Quartz， EUV， Foreign Materials）。无需复杂的工艺气体、操作及应用十分方便、全自动运行模式、便利的操作界面控制；

◆极强的深度控制--（z）控制，3 nm (3Σ from Target) 适用于所有材料；

◆边缘的布置--5 nm (3Σ from Target)，适用于所有材料；

◆重复修补及平面材料去除能力保证了非常宽的“through focus” 传送窗口；

◆在光罩修复领域nm450的市场占有率为全球**。