NX-2600整片基板带对准可多层次纳米压印加高分辨率光刻系统经过了大量的实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定。具备全部压印模式：热固化、紫外固化和压印。基于独特**保护的Nanonex气垫软压技术（ACP），不论模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形结构，NX-2600均可对其校正补偿从而获得****的压印均匀性， ACP消除了基板与模版之间侧向偏移，有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周期，*终得到快速的工艺循环。

主要特点：

所有形式的纳米压印

l热塑化

l紫外固化

l热压与紫外压印同时进行

l热固化 气垫软压技术(ACP)

lNanonex**技术

l**的整片基板纳米压印均匀性

l高通量 低于10nm分辨率 亚1微米正面对准精度 背面对准可选项 快速工艺循环时间（小于60秒） 灵活性

l4″， 6″， or 8″压印面积可选

l各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印

l方便用户操作 基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作 Nanonex压印系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定 全自动纳米压印

纳米压印系统参数

热塑压印模块

l温度范围0～250℃

l加热速度>300℃/分钟

l制冷速度>150℃/分钟

l压力范围0 ～ 3.8 MPa（550 psi）

紫外固化模块

l200W窄带紫外光源

l365纳米或395纳米波长可选

l全自动化控制 对准模块

lX， Y， Z， Theta平台

l分场光学和CCD相机

基板装载

l标配纳米压印系统可装载4″基板

l6″和8″基板可选

l各种尺寸及不规则形状模板及基板均可压印

l独特**保护ACP技术可**限度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和基板给予**限度保护。

光刻

l标配5”模板，标配4”直径基板

l其他尺寸可以提供

l500瓦紫外水银灯光源

应用领域：

纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等