​CMP工艺和CMP研磨液广泛应用于微电路制造过程中的抛光中。CMP研磨液的品质是否良好对于能否最大限度地提高设备产量至关重要，所以需要定期测量研磨液的粒径分布(PSD)。除了研磨液中颗粒的平均粒径，这种监测技术在理想情况下应该对远偏离于分布主峰的尾端颗粒的存在敏感(即对于少量较大颗粒的高敏感性）。这

​眼用溶液本质上应无可见颗粒，可以用两种方法来检测溶液中存在的亚可见颗粒。第1阶段：使用光线遮挡（AccuSizer）来计算粒子的数量和大小。如果第1阶段试验失败，样品则必须通过显微镜程序（第2阶段），该程序有其自身的限值。取样必须基于各种因素，如产品体积、历史计数数据、单位之间的计数可变性以及存在颗

​有许多方法可以确定乳液的平均液滴尺寸，但大多数方法无法确定少量会导致颈环的超大尺寸物质。基于大小和计数单个粒子的方法特别适合这种类型的分析，在此过程中，即使是少量异常值也可以进行大小和计数。通过原理为单颗粒光学传感器技术（SPOS）的AccuSizer系统非常适合定量乳剂尾部中主要小于1微米的超大离

​传统意义上，红细胞和白细胞都是用电阻法计数的。这种方法测量的是当分散在导电介质中的粒子通过小孔时，电阻的增加或相反，电导率的减少。这种反应的大小与粒子的体积和大小有关。尽管这项技术多年来一直适用，但本文证明，使用SPOS(单粒子光学传感)结合自动稀释功能对红细胞和白细胞的大小及颗粒计数检测，可以比电

​传统意义上，红细胞和白细胞都是用电阻法计数的。这种方法测量的是当分散在导电介质中的粒子通过小孔时，电阻的增加或相反，电导率的减少。这种反应的大小与粒子的体积和大小有关。尽管这项技术多年来一直适用，但本文证明，使用SPOS(单粒子光学传感)结合自动稀释功能对红细胞和白细胞的大小及颗粒计数检测，可以比电

​CMP浆体粒径分析：SPOS与费朗霍夫 半导体行业正在朝着更小的线宽和更多的层的方向发展。迈向这种高密度芯片技术的最重要的工艺考虑之一是对平面化步骤的更复杂的控制。抛光步骤受胶体分散金属氧化物浆料（CMP，化学机械平面化的简称）的影响，主要是二氧化硅和氧化铝，平均直径在10nm-200nm范

​粒径控制对脂质体载药的重要作用及相关检测方法摘要：脂质体作为药物载体，控制其粒径大小是必要的。动态光散射法和单颗粒光学传感技术可分别对亚微米、微米级别的粒径进行分析，美国药典中对粒径分布有明确的规定。通过实验验证了美国PSS公司的Nicomp 380/ZLS激光粒径检测仪、AccuSizer 780

​浆料粒径对CMP工艺缺陷水平的影响 通过使用两种粒度测量仪器，对最常用的化学机械抛光（CMP）氧化物浆料（CabotSC-112）的浆料粒度进行了分析。其中一种仪器是PSS粒度仪公司的Nicomp 370，用于监测平均粒径为100nm左右的浆料颗粒的主要群体。另一种仪器，Accusizer 770被

​浆料粒径对CMP工艺缺陷水平的影响 通过使用两种粒度测量仪器，对最常用的化学机械抛光（CMP）氧化物浆料（CabotSC-112）的浆料粒度进行了分析。其中一种仪器是PSS粒度仪公司的Nicomp 370，用于监测平均粒径为100nm左右的浆料颗粒的主要群体。另一种仪器，Accusizer 770被

​CMP 研磨液中颗粒的评价技术Geanne Vasiloulos, Zhenwu Lin, Kenneth Adrian 在化学机械抛光过程中，各种研磨液用于晶圆平坦化处理。这些研磨液中颗粒浓度可达＞1015颗/ml。除了用于抛光的大量颗粒外，研磨液中还含有相对较少＞1.0um的颗粒（二氧化

​USP <788> Particle Counting AccuSize系列仪器用于不溶性微粒检测案例 医用注射液不能含有可见异物。不可见异物通过使用光阻法的法、或者显微镜法检测，或者两者同时使用。在测量体积>100 mL时一般用光阻法，除另有规定外。针对单个或者混合无菌粉

​AN-708蛋白聚集概述基于治疗的蛋白质溶液聚集可能产生有害的免疫原性。对于较大尺寸的团聚体，可以测量这些团聚体，但在0.15至2微米范围内的较小团聚体很难量化。动态光散射(DLS)技术可以证明聚集体的存在，但不能提供任何关于聚集体的绝对浓度的信息。单粒光写传感器技术(SPOS)现在可以测量聚集蛋白

​喷墨墨水过滤喷墨中过大的颗粒会导致分散沉降、不稳定或喷墨喷嘴失效。如果检测到颗粒过大，就可以采取措施控制颗粒大小。其中一种方法是通过过滤去除大颗粒。测定分散颗粒平均直径的方法有很多，但大多数都不能测定少量的超大尺寸材料。基于粒度和计数单个粒子的方法特别适合于这种类型的分析，在这个过程中，即使是少量的

​AN-754 ISO4406污染度等级应用指南必须监控各种油（液压油，变速箱和其他流体动力系统）中的颗粒污染，以确保其正常工作并避免损坏有价值的设备。通常使用遵循ISO4406标准报告格式的液体颗粒计数器（例如PSS AccuSizer）进行这些测量。本文介绍了AccuSizer如何自动执行这些测量

​CMP过滤效率CMP解决方案在半导体技术高速公路上发挥着不可或缺的作用。它们是高密度集成电路生产中必不可少的步骤。CMP溶液是由多种组分组成的复杂分散体。这些胶体系统的生产和稳定性非常复杂，很难预测，因此必须在生产过程中，甚至在最终装运之前对它们进行监控。一些CMP溶液表现出独特的行为，受剪切和机械

​USP<729>脂质注射乳剂中颗粒大小分布 脂滴的大小是至关重要的，因为较大粒径的乳粒(>5μm)可以被困在肺部，也是乳化液破坏稳定的一个指标。 USP<729>测试需要两种分析技术：DLS，或激光衍射，以测量分布的均值和标准差，光阻法是用于检测大于5μm的尾端大颗粒。

​Application Note AN–CMP11Ultra-Sensitive Online Monitoring of CMP Slurries by Single-Particle Optical Sensing (SPOS) 通过单颗粒光学传感（SPOS）对CMP浆料进行超灵敏的在线监

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​利用LUMiSizer®表征纳米氧化物水性分散体的分散性，稳定性和粒径 纳米氧化物（如纳米Al2O3、纳米TiO2和纳米ZnO等）水性分散体是纳米氧化物粒子在水中的分散体。在多数情况下，纳米氧化物粒子的成功使用强烈地依赖于把纳米粒子分散于液相中的能力。像这样特殊应用的领域如化妆品、涂料、纺织、抛光

​AN-170蛋白聚集概述在蛋白质溶液中聚集已被证明有有害的影响。对于较大的聚集体，可以测量这些聚集体，但是在0.150 nm至2微米范围内的较小聚集体具有很难量化。Nicomp动态光散射(DLS)技术可以证明聚集体的存在，但不能提供任何关于聚集体绝对浓度的信息。讨论生物治疗药物已被证明容易诱导产生抗

​AccuSizer检测微泡超声对微泡的存在极为敏感，因此它们被用作造影剂，在各种超声分子成像程序中增强信号强度。这种方法通常称为造影增强超声(CEUS)。微泡的粒径分布和浓度对成像质量和患者安全至关重要。PSS AccuSizer是准确确定用于分子成像的微泡的大小和浓度的首选方法。介绍许多超声波分子

​Application Note AN–CMP10Analyzing Large Particles in CMP Slurries 分析CMP Slurry中的大颗粒化学机械抛光（CMP）工艺的质量取决于抛光设备和浆料，浆料由包含多种化学添加剂的液体中定义明确的固体颗粒组成。当今主要的生产问

​PSS粒度仪在脂质体行业上的应用 在医药和化妆品行业中脂质体是由磷脂制作而成的小球，它的粒径和表面电荷的检测是非常重要的一项。动态光散射是检测亚微米脂质体最常见的分析技术，单颗粒光学传感技术用于检测大于1微米的脂质体。Nicomp 380激光粒度仪和AccuSizer 780颗粒计数器在世界各地的实

​电解质对脂肪乳制剂的影响关键词：三腔袋、全肠外营养液、电解质、脂肪乳稳定性、大乳粒、大乳粒测定原理、大乳粒检测仪、大乳粒分析仪、大乳粒检测、大乳粒灭菌后超标是什么原因、PFAT5、PFAT5检测、PFAT5什么意思、大乳粒药典、静脉注射脂肪乳粒要求、脂肪乳大乳粒检测原理、大乳粒检测方法及各国药典的规

​血细胞Zeta电位红血球和白血球Zeta电位测量 Zeta 电位已用于测量胶体分散的稳定性。其基础是，Zeta电位与粒子表面的电荷成正比。Zeta电位越大，这些粒子之间的排斥力就越强。如此巨大的排斥力不断将粒子从随机碰撞一起扩散，形成聚合。Zeta 电位测量可用于其他应用。在这篇论文中，Zeta电位

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​Nicomp 388对PVC（聚氯乙烯）乳液的分析 在分析聚合物乳液的粒径分布时，常用的方法是光散射法。一般来说，它们分为两类:静态和动态。静态光散射，也称为激光衍射，使用空间阵列探测器记录散射光模式作为一个角度的函数。动态光散射测量，在一段时间内，散射光的振幅在一个角度。在这两种技术中，需要专门的

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​玻璃抛光的“高光时刻”玻璃的出现与使用在人类的生活里已有四千多年的历史，在12世纪，玻璃作为工业材料得到广泛应用。18世纪，为适应制望远镜的需要，制出光学玻璃。1874年，比利时首先制出平板玻璃。此后，随着玻璃生产的工业化和规模化，各种用途和各种性能的玻璃相继问世。现代，玻璃已成为日常生活、生产和科

​不是什么高压微射流均质机都叫意大利PSI1.何为高压微射流均质机？高压均质机原理（1）：高压均质机主要由高压均质腔和增压机构构成。高压均质腔的内部具有特别设计的几何形状，在增压机构的作用下，高压溶液快速地通过均质腔，物料会同时受到高速剪切、高频震荡、空穴现象和对流撞击等机械力作用和相应的热效应，由此