​本文隶属于一体化解决方案系列，全文共 6593字，阅读大约需要 22分钟引言：高压均质机对于乳剂制备的作用乳剂通常是由两种互不相溶的液体，其中一种以微小液滴的形式分散在另一种液体中所形成的非均相分散体系，这些液滴通常直径在0.1至100微米之间，由乳化剂稳定。因此乳剂通常是由水相、油相和乳化剂三部分

​1背景摘要：在复杂注射剂的研发和制剂开发中，处方筛选至关重要，它直接关系到药物的有效性、稳定性和安全性。本文主要介绍了 LUMiSizer稳定性分析设备在处方筛选中的作用，如快速进行处方筛选，以节省研发时间，并通过两个案例进行了具体分析。在丙泊酚脂肪乳剂的案例中，LUM系列稳定性分析仪可快速、直接地

​本文隶属于一体化解决方案系列，全文共 3215字，阅读大约需要 12分钟引言：胶体稳定性分析技术本文主要探讨了胶体悬浮液的稳定性控制问题。胶体悬浮液在药物输送、软饮料制造、涂层、抛光等领域有广泛应用，其稳定性对产品性能、保质期、生产效率和成本控制至关重要。文章介绍了 单颗粒光学传感技术（SPOS）技

​本文隶属于一体化解决方案系列，全文共 3107字，阅读大约需要 12分钟摘要：复杂注射剂的粒径控制是其制备中的关键一环，注射剂的平均粒径、不溶性颗粒以及尾端大颗粒是其质量控制的重要内容。Entegris（PSS）公司利用Nicomp系列仪器进行平均粒径与粒径分布检测，利用AccuSizer系列仪器进

​本文隶属于一提化解决方案系列，全文共 3118 字，阅读大约需要 12分钟摘要：化学机械平坦化（CMP）研磨液（Slurry，浆料）包含少量大颗粒（LPC），会在晶圆表面造成微划痕。在不改变工作颗粒分布的情况下，从高固含量的研磨液中捕获大颗粒是研磨液过滤器面临的主要挑战之一。过滤器性能评估常用聚苯乙

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​1 本文的应用背景尽管铜化学机械平坦化(CMP)已成为半导体制造业实现集成电路局部和全局平坦化的关键技术，但在阻挡层CMP过程中仍有一些问题需要克服，如有机残留物、表面颗粒、蝶形缺陷、侵蚀和划痕，其中，划痕将是CMP过程中最有害的缺陷。因为在CMP后的清洗过程中，产生的其他类型的缺陷可以通过不同方法

​全文共 5735 字，阅读大约需要 18 分钟摘要：蛋黄米诺地尔，一款备受瞩目的生发神器，正以其独特的技术和成分，帮助越来越多的人重拾浓密秀发。Oaku团队致力于通过纳米技术，特别是通过珠磨法制备了5％MXD纳米颗粒制剂（MXD-NPs）。该配方既具有MXD纳米颗粒的分散性，又通过使用靶向毛囊的纳米

​全文共 1425 字，阅读大约需要 5 分钟摘要：蛋黄酱是一种浓稠的奶油调味品，是由油、蛋黄和醋或柠檬汁组成的稳定乳液，可搭配多种香草和香料。像其他乳液一样，其滴度在稳定性方面起着重要作用。制作新型蛋黄酱（或蛋黄酱类涂抹酱）的配方师也许希望能够分析油滴大小，以优化新的配方，从而获得最长的保质期。Ac

​全文共 2748 字，阅读大约需要 9 分钟摘要：化学机械抛光/平坦化 (CMP) 是一种广泛用于微电子行业的工艺，通过化学力和机械力的结合来平滑表面。该工艺使用磨蚀性和腐蚀性的浆料来帮助平整晶片表面。CMP浆料是纳米级磨粒和其他化学品的复杂混合物，包括表面活性剂、pH 调节剂、氧化剂、有机酸和络合

​全文共 2728 字，阅读大约需要 9分钟1 高粘度光刻胶用颜料介绍光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀、去胶等工艺将需要的图形从掩模版转移到待加工衬底上的材料。经曝光后，光刻胶在显影液中溶解度会发生变化，从而可以形成图案。光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，占芯片制造时间的40%~5

​1 引言3D打印，也称为增材制造（Additive Manufacturing），是一种制造技术，通过将数字化的三维模型切片并逐层构建，从而创建物体的过程。传统的制造技术通常是通过去除材料来制造物体，例如铣削或车削，在此过程中，通过从块状原料中去除多余材料来形成所需形状。而在3D打印中，则是通过逐层

​全文共 1815 字，阅读大约需要6分钟背景：佐剂是基于重组蛋白的现代疫苗的关键组成部分，这些疫苗通常免疫原性很差，没有其他免疫刺激剂。水包油乳剂包含一类高级的疫苗佐剂，它们是批准的季节性和大流行性流感疫苗的组成部分。但是，很少有报道系统地评估不同乳液组分的体外稳定性和体内佐剂作用。目标：为了评估不

​1 为什么大量的客户购买一个Nicomp DLS1 数据处理量大。动态光散射(DLS)仪可以优化灵敏度并进行调整提高数据的重复性。Nicomp仪是为极高的灵敏度而设计的。2 Nicomp算法是能够确定多峰的存在，并且可以分析比其他DLS仪更相邻的峰（图1）。3 可以访问算法的设置，根据特定的样品微调

​全文共 895 字，阅读大约需要 3 分钟1概述对于某些应用场景，只有少量样品可用于使用多种技术进行分析。在制药研究中，拥有 1 ml或更少蛋白质样品并需要进行多次分析并不罕见。AccuSizer® 能使用小体积测量颗粒大小和浓度，本篇文章将提供AccuSizer用于微量样品颗粒浓度检测的实际案例。

​SemiChem APM 200是一款用于DSP+过程控制中（HF）和总酸（Total Acid）的监测工具，它将帮助您开启全新的产品探索之旅。关键词:DSP;酸值检测;先进过程监控器1 介绍在液晶、半导体行业中Wet Cleaning是个常用工序，在此工序中使用的Diluted Sulfuric

​1 微球的均一性控制的重要性3D打印，也称为增材制造（Additive Manufacturing），是一种制造技术，通过将数字化的三维模型切片并逐层构建，从而创建物体的过程。传统的制造技术通常是通过去除材料来制造物体，例如铣削或车削，在此过程中，通过从块状原料中去除多余材料来形成所需形状。而在3D

​通常通过粒度分析以跟踪粒度减小的单位操作。用于减小乳液/悬浮液粒径尺寸的一种非常有效的技术是微射流均质机®。使用实验室规模的微射流均质机处理乳液和脂质体制剂，并使用 Nicomp ® 动态光散射 （DLS） 系统分析粒径减小过程。关键词:微射流均质机;Nicomp®系统;动态光散射1 概述通常通过

​在过去的几年里，已经制造了很多FX Nano传感器，在正常工作条件下，硬件组件（激光模块和电子电路板）基本上没有出现故障。简而言之，这些硬件组件的可靠性非常出色。电子计数器模块和相关电源也是如此，在此期间生产的所有系统中的故障可以忽略不计。关键词:FX Nano传感器;AccuSizer系统;清洁方

​配制两相分散体的一个共同目标是最大限度地提高产品的稳定性或保质期。悬浮液和乳液都是如此。粒径和表面电荷（zeta 电位）都是影响悬浮液稳定性的重要物理特性。本应用说明解释了如何使用粒径和 zeta 电位测量来提高分散稳定性。关键词:Zeta点位;Nicomp电位;粒径1 介绍悬浮液（固体/液体）和乳

​喷墨油墨是颜料在溶液中的胶体分散体。颜料的适当分散是必要的，以避免由于结块而导致的沉淀、不稳定或喷墨喷嘴故障。确保最佳的配方和制造工艺需要一种可靠的方法来确定最终产品的粒度分布。Entegris AccuSizer® 单颗粒光学传感技术 （SPOS） 系统非常适合确定最终喷墨墨水是否包含过大颗粒，这

​全文共 5287 字，阅读大约需要 16 分钟制药产品的研发和制造涉及的复杂过程需要先进的过程分析技术，即使是常规应用。此要求适用于不锈钢和玻璃容器中的大规模制造工艺以及一次性袋子系统。从培养基和缓冲液制备到灭菌和去污染物的过程都需要液体化学浓度、温度监测和控制，以确保最佳的工艺性能。关键词:折射率

​摘要：近年来，MLCC（多层陶瓷电容器）在智能手机、汽车、工业等领域的需求快速增长。陶瓷浆料是MLCC的主要原材料之一，电极通过陶瓷浆料印刷、固化而成。对于陶瓷浆料而言，配比浆料的稳定性及浆料的均一性是影响后续流延工艺、印刷工艺、烧结工艺难度及成败的关键，这些也对电极的规模化制造至关重要。使用珠磨机

​摘要：化学机械抛光（CMP）是一种广泛应用于半导体晶圆加工，通过结合化学力和机械力对晶圆表面进行抛光、平坦化。CMP Slurry（抛光液/研磨液）是用于CMP工艺中的重要原料，通常由纳米及亚微米级别原料组成。而Slurry中的大颗粒的存在易在CMP工艺中对晶圆表面造成划痕，影响成品良率。因此在生产

​摘要：化学机械抛光（CMP）是一种广泛应用于半导体晶圆加工，通过结合化学力和机械力对晶圆表面进行抛光、平坦化。CMP Slurry（抛光液/研磨液）是用于CMP工艺中的重要原料，通常由纳米及亚微米级别原料组成。而Slurry中的大颗粒的存在易在CMP工艺中对晶圆表面造成划痕，影响成品良率。因此在生产

​USP788解读与Accusizer A2000应用摘要：USP美国药典是美联邦对药品质量标准和检定方法作出的技术规定，其中USP<788>章节是对注射液中的不溶性颗粒的危害与检测、判定标准做了详细的表述，包括第一光阻法和第二显微镜法，本文将对USP<788>详细解读，主要分

​《光阻法测定乳状注射液中大于5μm的乳粒》药典解读摘要：乳状注射液中尾部大颗粒的含量对于其质量安全性有重要影响，本文围绕着中国药典《光阻法测定乳状注射液中大于5μm的乳粒》一章节，以奥法美嘉公司的Accusizer A7000 APS设备为例，探究了光阻法的工作原理及其测量规范要求：粒径及浓度的准确

​疫苗专题：乳佐剂制备与理化结构特性随着亚单位疫苗、合成肽疫苗、核酸疫苗、抗独特性抗体疫苗等各种新型疫苗的出现，免疫佐剂的研究越来越被人们关注，临床应用也越来越广泛。这些新型疫苗虽然具有抗原性良好、毒性低等优点，但因其免疫原性低，需要配合高效免疫佐剂的使用。免疫佐剂可以先于抗原或与抗原同时使用，能够非

​疫苗专题：乳佐剂制备与理化结构特性随着亚单位疫苗、合成肽疫苗、核酸疫苗、抗独特性抗体疫苗等各种新型疫苗的出现，免疫佐剂的研究越来越被人们关注，临床应用也越来越广泛。这些新型疫苗虽然具有抗原性良好、毒性低等优点，但因其免疫原性低，需要配合高效免疫佐剂的使用。免疫佐剂可以先于抗原或与抗原同时使用，能够非

​CMP工艺和CMP研磨液广泛应用于微电路制造过程中的抛光中。CMP研磨液的品质是否良好对于能否最大限度地提高设备产量至关重要，所以需要定期测量研磨液的粒径分布(PSD)。除了研磨液中颗粒的平均粒径，这种监测技术在理想情况下应该对远偏离于分布主峰的尾端颗粒的存在敏感(即对于少量较大颗粒的高敏感性）。这