美国ibss公司由Vince Carlino成立于2002年，该公司持续致力于等离子清洗设备的开发，特别是针对电子束等易产生积碳应用场景下等离子清洗设备的开发，其**的DownStream技术能够保证等离子体中不含电荷或离子态的物质存在，从而可以**程度降低等离子体对样品表面的损伤，同时能够保证线性清洗效果，从而满足定量去除制样的需求。该公司产品全球销售总量超过1000台，中国地区知名用户如：北京大学、上海光源、SMIC、YMTC/XMC、TSMC、Infineon等。

技术优势：

1、采用**DownStream设计，等离子体中不含任何电荷及离子态物质，防止对样品表面的溅射损伤；

2、ICP诱导激发等离子体，等离子体量大，且作用范围广；

3、可同时清洗3根透射电镜样品杆，支持ThermoFisher/JEOL/Hitachi全系列样品杆；

4、采用Qwk-Switch快接口设计，等离子发生器可以直接接入其他真空腔体进行在线清洗，一机多用；

5、清洗功率范围：10W-99W，样品清洗舱大小：7英寸（φ） X 7英寸（H）；

6、可直接利用O2或Ar清洗碳膜；

7、配备真空探测系统，可设定真空范围自动进行清洗；

8、清洗速率：1.5nm/min@30W， 清洗去除为线性模式，可定量化去除污染 。