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日本电子JIB-4600F聚焦离子束
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日本
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产品简介

主要特点:

? 浸没式热场发射电子枪

提供高稳定的电子束束流与**光栏角控制透镜配合获得高分辨图像.

? 电子束大电流高速分析

电子束**束流强度200nA

? 离子束大电流模式

加工速度很快

? 实时监控加工过程

通过扫描电镜图像可以实时监控加工过程,提高了内部结构分析和获得TEM用薄膜样品的效率。

? 扩展性极强

大样品台**装样直径50mm,并且可以同时安装EDS, EBSD, and CLD等探头

技术参数:

FIB

离子源:Ga(镓)液态金属离子源

保证分辨率: 5 nm 以下(加速电压 30 kV)

加速电压: 5 to 30 kV

放大倍数: x30 (广域)

x100 - x300,000

**束流:30 nA

SEM

浸没式热场发射电子枪

保证分辨率: 1.2 nm (电压 30 kV)

加速电压: 0.2 to 30 kV

放大倍数:x50 - x1,000,000

**束流: 200 nA

样品台移动范围: X:50mm , Y:50mm , Z:1.540mm , T:570° , R:360°

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