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HORIBA JY H20-UVL真空紫外光谱仪
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法国
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产品简介

H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆盖100-400nm(3-12.4eV),在大气环境下覆盖190nm-400nm(3-6.5eV)。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描,可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下,配备单通道探测器,H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统。

技术特点

单片式光学结构确保光通量**化,高光学稳定性

配备4型消像差单色仪光栅,全光谱范围线色散均匀

全自动蜗轮高速驱动光栅

光栅表面镀氟化镁膜,优化120nm以上波长的输出

典型应用

透射反射测量

荧光激发

可调滤波/光源

激光谐波滤波

技术指标

光学设计

HJY**的4型消像差单色仪光栅

焦长

200 mm

孔径

f/4.2

刻线密度

1200 gr/mm

光学镀膜

针对121nm优化的MgF2

偏转角

64°

色散

100nm3.6 nm/mm

驱动

高速蜗轮驱动

*小步进

0.06 nm

速度

400 nm/s

精度

+/- 0.2 nm+/-0.06 nm (*)

可重复性

+/-0.06 nm

分辨率

优于0.5 nm (**)

高真空

10-5 mbar (***)

真空泵法兰

DN40 KF

入射/出射接口

测微狭缝(10 um 2 mm)

入射/出射法兰

DN25 KF

电脑接口

USB2.0

可选项

超高真空

10-9 mbar

狭缝高度调节器

2, 4, 6 mm

(*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度

(**)使用宽10微米,高2mm的狭缝在121nm处测量

(***)H20-UVL不含真空泵和真空计

附件

前镜腔,配备两块超环面镜,实现光源和单色仪之间的光学匹配

后镜腔,配备两块超环面镜,实现单色仪和样品室之间的光学匹配

样品室,可搭载4块直径不大于25mm的样品

偏振插片

制冷机,*低至4K

真空泵

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