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大型电子束箱式真空镀膜设备
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参考报价:
面议
品牌:
中科唯实
关注度:
8
样本:
暂无
型号:
大型电子束箱式真空镀膜设备
产地:
四川
信息完整度:
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暂无
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大型电子束箱式真空镀膜设备

以您的镀膜工艺出发,理论计算和设计经验结合,合理的配置,合理的布局,超高的性价比。全自动一键式操作。既能满足科研院所多品种、小批量产品研制的需求,又能适用于规模化生产。全无油真空系统。

◆ 适用行业:天文观测、SiC改性及传统光学镀膜、红外器件镀膜等

◆ 适用膜料金属类:金、银、铝、铜、钛、铬、钯、铑、铂、镍等各类金属或合金

◆ 介质类:二氧化硅、三氧化二铝、二氧化钛、五氧化二钽、氧化铪、二 氧化锆、氟化镁、氟化钇、硫化锌、硒化锌、H4、SV-7、SV-20等

◆ 晶体类:锗、硅等膜层厚度       ◆ 金属类:5nm-40mm

◆ 介质类:5nm-30mm              ◆  晶体类:10nm-30mm

◆ 基底(衬底)尺寸: φ1.5mm-φ2400mm

主要技术指标:

◆ 内腔直径(mm):2800、3000、3600等;

◆ 使用整体平面工件盘时:工件直径不超过φ2400mm,边缘厚度不超过400mm,工件及夹具总重量不超过10吨,工件转速3-10rpm/min;

◆ 使用三行星平面工件盘时:工件直径不超过φ1100mm,边缘厚度不超过250mm,工件及夹具总重量不超过1吨,工件转速3-30rpm/min;

◆ 极限真空:≤8×10-5 Pa(24 小时内);

◆ 常温状态下,真空室排气由大气至压强2×10-3Pa,排气时间≤25min;

◆ 250℃烘烤状态下,真空室排气由大气至压强2×10-3Pa,排气时间≤45min;

◆ 下烘烤,**温度300℃,控温精度≤±1℃;

◆ 烘烤至200℃时,温度不均匀性≤±5℃(径向5点测试)

◆ 漏气率:≤1.0×10-4Pa?m3/s;

◆ 膜厚片内均匀性:≤±2%(电子束蒸发源制备Al2O3、SiO2两种单层薄膜,延半径方向均分十点测试);

◆ 膜厚片间均匀性: ≤±2%(批次内5片,每片取平均值)

◆ 膜厚批间重复性:≤±2% (连续3批,每批次取平均值) ;


控制程序:

◆ 19U标准机柜,专用控制台操作;

◆ 基于微软WPF开发的全自动一键式操作程序,保证镀膜重复性;

◆ 采用excel文件编辑工艺参数,软件直接调用运行即可完成整个镀膜工艺流程,无需额外操作;

◆ 软件自动生成详细的工艺过程运行记录和镀膜信息记录;

◆ 记录文件可回溯,历史数据曲线可查看,时间期限为1年内;

◆ 可将TFC和Macload软件设计参与导入到工艺流程内;

◆ 膜层状态界面可查看厚度、时间、速率、功率等镀膜信息;

◆ 关键部件根据实际使用情况,有维护时间显示,即节约成本,又便于维护;

◆ 完备的互锁功能,防止误操作;

◆ 程序设有三级权限,便于管理及维护。


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