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M82200-10UM型PECVD 镀膜设备品牌
电子科技产地
湖南样本
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产品简介
单台（5管）产能≥3600片/小时（单管装片416片/批）；
沉膜均匀性好，膜厚均匀性指标可达：片内≤3％、片间≤3％、批间≤3％；
350～580℃控温范围，同时满足沉积氮化硅膜和退火工艺要求；
采用全套倍福控制系统，自动化程度高（ 提供MES接口、远程监控等功能）；
全自动上下舟系统，一键全自动工艺和完善的保护报警功能；
送料机构强度、精度、速度、稳定性大幅优于同类产品。
基本参数 | 成膜种类 | 氮化硅 |
装片量与产能 | 416 片/批（156x156mm 方片），单台5管产能≥3600片/小时； | |
在线时间 | ≥98%； | |
设备功率 | 峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； | |
设备尺寸 | 7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； | |
成膜质量参数 | 成膜均匀性 | 片内≤4％、片间≤3％、批间≤3％（膜厚80～120nm）； |
折射率均匀性 | 片内≤1.5％、片间≤1.5％、批间≤1.5％（折射率2～2.2）； | |
温控系统参数 | 恒温区长度及精度 | ≤±1℃/1600mm （450℃时）； |
温度控制范围 | 200～580℃； | |
温度控制方式 | 五段双回路温度控制； | |
真空系统参数 | 压力控制 | 高精度VAT阀控制，控压范围220±40Pa； |
石墨舟传输系统参数 | 石墨舟上料方式 | 全自动机械手上下舟，在线式/离线式对接插片机可选； |
控制系统参数 | 推舟机构 | 水平速度1~12000mm/min可调，垂直速度1~150mm/min可调，承重≥40KG； |
控制方式 | 高性能工控计算机全自动控制工艺过程，并对工艺参数和工艺流程实时监控； | |
基本参数 | 在线时间 | ≥98%； |
设备功率 | 峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； | |
设备尺寸 | 7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； |
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