化学机械研磨

推荐盛美上海等多家厂商迎突破 碳化硅设备国产化加速

中国粉体网讯 近日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司通过微信公众号平台宣布，其推出了新型化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备。盛美上海指出，这是公司第一款Post-CMP清洗设备，该设备可用于制造高质量衬底化学机械研[更多]