中国粉体网讯 近日,盛美半导体设备(上海)股份有限公司通过微信公众号平台宣布,其推出了新型化学机械研磨后(Post-CMP)清洗设备。盛美上海指出,这是公司第一款Post-CMP清洗设备,该设备可用于制造高质量衬底化学机械研[更多]
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