中国粉体网讯 等离子体刻蚀技术作为关键的微纳加工手段，已成为半导体制造过程中不可或缺的核心工艺。等离子体刻蚀通过应用高能、高密度的等离子体实现材料的精确刻蚀，从而提升了集成电路的制造效率和良品率，使得半导体器件在高度集成的条[更多]
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