奕斯伟材料

推荐晶圆抛光的“三重奏”：如何用精准抛光液配方实现高平整表面？

中国粉体网讯 近日，国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司取得一项名为“用于最终抛光工艺的处理方法及抛光晶圆”的专利，可以在对晶圆表面进行前序工艺损伤去除和镜面化修复的同时减少微分干涉对比缺陷的形成。来源：国[更多]