韫茂科技桌面型原子层沉积系统_报价-厦门韫茂科技有限公司

桌面型原子层沉积系统

品牌：韫茂科技
产地：福建
关注度：2417
型号：MINI
报价：面议
信息完整度：

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核心参数

重量（kg）：30Kg
规格外形（长*宽*高）：550*400*400mm

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产品介绍

桌面式平片原子层沉积系统

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原子层沉积（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。

产品描述

厦门韫茂科技公司研发的超小型桌式 ALD 原子层沉积设备是先进材料研究的有力设备之一，它可以在6寸晶元（向下兼容）和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积，具有广泛的应用领域，设各配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统，保证工艺温度均匀，该系统具有**粉末样品桶、晶元載盘，全自动温控制、 ALD 前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制，以及现场 RGA 、 QCM 、臭氧发生器、手套箱等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的**研发工具

主要技术参数

Mini Desktop ALD 技术参数 Technical Specifications （HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制备）
特色 Feature	结构紧凑，世界上极小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD
功能 Function	高端制造，功能强大，操作简易，维护方便
样品**尺寸	Ф100mm (其他尺寸可定制）硅片或几克粉末
样品反应温度 Heating	RT-450℃
前驱体 Max Precursor	**可4组液态或固态反应前驱体, Max 4 Liquid/Solid Precursors，可定制 Can Be Customized
前驱体加热**温度 Max Precursor Heating	RT-200℃
包覆均一性 Uniformity	<1% (Al2O3)
成膜速率 Deposition Rate	1A/Cycle (Al2O3)
臭氧发生器Ozone Generator	可选配，生产效率15g/h
人机界面 HMI	全自动化人机操作界面
安全Safety	工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO

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工商信息

企业名称

厦门韫茂科技有限公司

企业类型

信用代码

91350200MA31JEYQ4Y

法人代表

注册地址

成立日期

注册资本

有效期限

经营范围

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客服电话

厦门韫茂科技有限公司成立于2018年，团队成员拥有丰富的薄膜沉积工艺及设备开发产业化经验。公司目前已拥有各类**技术近50项，入选国家级高新技术企业及国家级专精特新“小巨人”企业。韫茂科技专注于锂电池、光伏、Mini/Micro LED、先进光学、碳化硅、集成电路、超导材料和器件等领域薄膜沉积设备的研发与生产，目前已形成了以ALD原子层成膜系统、PVD物理气相沉积系统、CVD 化学气相系统、Epitaxy外延炉等一系列薄膜沉积设备为核心的产品矩阵。凭借在先进材料设备业

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