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产品简介
无掩模曝光机
美国IMP(Intelligent Micro Patterning, LLC)公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光**技术,已成为无掩模紫外光刻领域的***。
产品优点:
微米和亚微米光刻 (*小可达到0.6um线宽)
紫外光直写曝光,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用
灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整。
可升级开放性系统设计。
按照客户要求可从低端到高端自由配置
使用维护简单, 设备耗材价格低。
应用范围广,目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。
*小线宽可以达到0.6um量级
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