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KMPR 1000系列光刻胶
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美国
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产品简介

KMPR为负性光刻胶,用作DRIE蚀刻掩膜实现高深宽比的图案,它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因为KMPR减少了Cross-link密度,在Hard baked之前,KMPR比SU-8更容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA),或(TMAH)的显影剂中得到显影。

KMPR 1000系列的特性

1)临时或**的应用程序

2)膜厚:2-75 um

3)兼容标准水性显影剂

4)高宽比成像和垂直侧壁,深宽比:>5:1

5)单一旋途可达100微米

6)减少开裂

7)优异的金属粘附性

8)优异的电镀膜液稳定性

相关溶液:

显影液:SU-8 Developer

去胶液:Remover PG

增附剂:OmniCoat

一般储存温度:

-10°C

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