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单腔型高真空蒸镀系统
产品详情:
单腔设计,紧凑经济,轻松拥有高质量镀膜系统。
技术参数:
1极限真空:<2E-7Torr
2排气速率:从ATM到3E-6Torr<15min
3基板加热 :RT-300ºC
4高分辨率镀膜速率显示及控制:±0.015Å
5**基板尺寸:200mm
6前后门设计可集成手套箱:可选配手套箱
7人机界面:自动化人机操作界面
8安全:全工业标准安全互锁,工业安全联锁,报警装置
厦门韫茂科技有限公司凭借在先进材料设备业务方面多年的经验,韫茂为新型芯片,半导体和锂电池领域的新材料开发和生产,提供***的纳米工艺设备和服务解决方案。根据您的特殊需求,我们为您定制打造创新纳米加工平台,保证高品质的设计,多功能,易于使用的界面,严格的安全控制,以及快速的交付和服务。
产品详情:单腔设计,紧凑经济,轻松拥有高质量镀膜系统。