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超高真空双倾角室蒸发设备
技术参数 ：
1、UHV超高真空腔体：2腔室，负荷锁和蒸发，负荷锁极限真空 极限压力<1E-8 Torr，可加热RT-900ºC
2、蒸发腔：极限真空 极限压力<3e-9 Torr
3、高分辨率镀膜速率显示及控制 ：±0.015，Å100mm镀膜均一性<3%
4、基板操控能力：可实现180度倾斜及360度旋转，0.1度的精准控制，加热RT-600ºC
5、传输 ：全自动样品传输
厦门韫茂科技有限公司凭借在先进材料设备业务方面多年的经验，韫茂为新型芯片，半导体和锂电池领域的新材料开发和生产，提供专业的纳米工艺设备和服务解决方案。根据您的特殊需求，我们为您定制打造创新纳米加工平台，保证高品质的设计，多功能，易于使用的界面，严格的安全控制，以及快速的交付和服务。
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