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面议型号
场发射扫描电镜 SEM5000品牌
国仪量子产地
北京样本
暂无探测器:
镜筒内电子探测器 旁侧二次电子探测器(ETD)加速电压:
20V-30KV电子枪:
肖特基场发射电子光学放大:
1-2,500,000光学放大:
-分辨率:
0.8nm@15KV SE看了场发射扫描电镜 SEM5000Pro的用户又看了
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SEM5000Pro是一款分辨率高、功能丰富的场发射扫描电子显微镜。
先进的镜筒设计,高压隧道技术(SuperTunnel)、低像差无漏磁物镜设计,实现了低电压高分辨率成像,同时磁性样品可适用。光学导航、完善的自动功能、精心设计的人机交互,优化的操作和使用流程,无论经验是否丰富,都可以快速上手,完成高分辨率拍摄任务。
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摘要:硬脂酸镁是制药界广泛应用的药物辅料,因为具有良好的抗粘性、增流性和润滑性在制剂生产中具有十分重要的作用,作为常用的药用辅料润滑剂,比表面积对硬脂酸镁有很大的影响,硬脂酸镁的比表面积越大,其极性越
2022-07-05
陶瓷材料具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等一系列特点,被广泛应用于电子工业、汽车工业、纺织、化工、航空航天等国民经济的各个领域。陶瓷材料的物理性能很大程度上取决于其微观结构,是扫描电镜重要的应用领
2022-09-27
4月1日,由湖南大学分析测试中心与国仪量子联合主办,深圳速普仪器有限公司、长沙凯普乐科技有限责任公司协办的“国仪电镜论坛暨湖南大学电子显微技术交流会”在湖南大学分析测试中心成功举行。本次会议吸引了湖南
引言 为更好地激励在科研领域辛勤探索、努力拼搏的科研工作者,同时助力光探测磁共振事业发展,国仪量子决定对使用本公司ODMR系列产品,发表高水平学术文章的科研工作者给予现金奖励。2025年OD
国仪量子电镜在芯片金属栅极刻蚀残留检测的应用报告一、背景介绍 在芯片制造工艺中,金属栅极刻蚀是构建晶体管关键结构的重要环节。精确的刻蚀工艺能够确保金属栅极的尺寸精度和形状完整性,对芯片的性能
国仪量子电镜在芯片后道 Al 互连电迁移空洞检测的应用报告一、背景介绍 随着芯片集成度不断攀升,芯片后道 Al 互连技术成为确保信号传输与芯片功能实现的关键环节。在芯片工作时,Al 互连导线
国仪量子电镜在芯片钝化层开裂失效分析的应用报告一、背景介绍在半导体芯片制造领域,芯片钝化层扮演着至关重要的角色。它作为芯片的 “防护铠甲”,覆盖在芯片表面,隔绝外界环境中的湿气、杂质以及机械应力等不利