“For Wafer” Perpendicular Magnetic Layer Evaluation System

“晶片”垂直磁层评估系统

优势

测量垂直磁层12英寸的晶圆

规格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement

(Polar Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探测光斑

φ1mm (Typ.)

磁场

Max. ± 25Oe (2.5T)

“For Wafer” In-Plane Magnetic Layer Evaluation System

“晶片”平面磁层评估系统

优势

测量平面磁层12英寸的晶圆

规格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement

(Longitudinal Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探测光斑

φ1mm (Typ.)

磁场

Max. ± 2kOe (0.2T)

“For Hard Disc” Perpendicular Magnetic Recording Layer

Evaluation System

“硬盘”垂直磁记录层评估系统

优势

测量垂直磁性介质的2.5英寸和3.5英寸的硬盘

规格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement

(Polar Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探测光斑

φ1mm (Typ.)

磁场

Max. ± 25kOe (2.5T)

“For Hard Disc” Soft Under Layer (SUL) Evaluation System

“硬盘”下软层评估系统

优势

测量软层下的2.5英寸和3.5英寸的硬盘

规格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement

(Longitudinal Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探测光斑

φ1mm (Typ.)

磁场

Max. ± 3kOe (0.3T)