美国SVT公司ALD原子层沉积系统

自1990年来薄膜淀积设备**制造商。

拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。

提供广泛的服务，包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制

设备制造和工艺技术的高度结合，为客户提供可靠的技术服务

实验室7台应用淀积设备生长出***的材料

多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场

在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的**供应商。

NorthStar ALD系统介绍：

NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法，包括热淀积以及能量增强淀积。

每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔，使其应用范围极为广泛。

设备的快速舱口盖或装载室（可选件）使样品操作快捷方便。

NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来，还能连接多种测量仪器。

原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。

可以直接升级至超高真空

提供工艺演示以及工艺培训服务

为潜在客户提供免费样品测试。

应用领域：

High-K电介质

纳米涂层

MEMS

光子晶体

扩散阻挡层

器件封装

表面改性层

技术参数：

为科研客户量身打造***的原子层沉积系统。

提供4"、6"、8"、12"等多种尺寸的样品平台。

针对客户的需求，提供多种输气设计。

---可控真空度: 1 Torr to UHV

---气道加热

---气体快速进出

---样品尺寸: 4in standard， optional 12in

---基底加热: up to 300 ℃， optional higher temp

主要特点：

*安全的设计，多样化的配置，全方位的测试手段。

精确的控制手段打造**的成膜质量。强大的科研团队铸就**的科技实力。

---气体离子化

---臭氧输送装置

---石英振荡器

---四重质量分光计

---实时温度显示

---椭偏仪

---进样室