仪器简介：

全球专业的薄膜沉积生长速率监控系统，采用无损的激光技术实时原位检测薄膜沉积速率、薄膜厚度以及光学常量（n&k），可广泛的应用于金属有机化学气象沉积MOCVD、分子束外延MBE、溅射系统Sputtering和蒸发系统等薄膜沉积过程的实时原位监控。

主要特点：

*实时薄膜沉积速率、薄膜厚度和光学常数（n&k）分析，同时标准偏差统计分析；

*自动程序化校准；

*精密的实时反馈系统；

*程序控制，可实时多层薄膜沉积监控和控制；

*多Wafer监控功能；

*Wafer基底旋转监控和控制功能；

*所有参量原位实时检测；

*操作装配简单便捷；