PlasmaEtch 等离子开封设备

等离子开封设备PlasmaEtch是一个革命性的气体为基础的半导体蚀刻系统。采用以前从未见过的应用微波气体煽动化学基团为各向同性腐蚀。PlasmaEtch腐蚀大部分样本大小，封装类型和引线键合的类型。无论它是一个传统的金丝样品或者该样品设有铜或银导线，PlasmaEtch都提供了安全可靠的蚀刻。

等离子开封设备是为快速蚀刻模具化合物，聚酰亚胺芯片特别研发的，无需攻击敏感的接线便可将芯片开封。

优点:

1）对铜线、数化铜线及

2) 银线线无伤害

3) 伤害小 (selectivity > 500:1)

4)快速等向性蚀刻

5) 无离子、无辐射

6) 加力聚焦下游等离子体刻蚀

7) 质量流量控制的所有气体

8) 低温蚀刻

9) 各向同性蚀刻

主要特点:

1)可定制的蚀刻配方

2)蚀刻封装类型多种多样

3)优化开封微芯片

4)开封处理程序快速

5) 高刻蚀率及低成本

6) 完全Chemical-free 开盖，符合环保要求

7) 针对银线的**解决办法

8) 移除率约200 μm/小时

(包括无机填充材料移除)

开封后的效果