德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机DWL 2000/4000

科研型与量产型兼具的激光直写设备高速、高灵活度与高精度的光学系统4096阶灰阶光刻功能

DWL2000和DWL4000激光光刻系统为快速、灵活的高分辨率图形产生器，用于制作光罩和直写。这些系统的写入面积高达200x200mm2与400x400mm2，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微结构应用里，需快速构图于光罩和硅片的**方案。

除了高分辨率的2D图形之外，还提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻胶中创建复杂的3D结构。与其他技术相较，此光刻技术能够在大面积中产出3D微结构。优化评估灰度曝光的特殊软件工具，减少新图像设计的循环时间。为了确保*低的表面粗糙度和形状一致性，该系统支持高达4096灰度级，在业界中具备****的性能。常见的应用包括部份大型的跨国公司制造用于电信或照明产业的晶圆级光学器件，其他新应用包括显微镜制造以及生物学和生命科学领域的器件制造。