芬兰PICOSUN生产型原子层沉积机P-1000 Pro ALD

技术参数：

衬底尺寸和类型

。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）

。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）

。大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）

。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品

工艺温度： 50 - 500 °C

基片传送选件：

。气动升降（手动装载，带叉车forklift cart）

。全自动转载，用工业机器人实现

前驱体：

。液态、固态、气态、臭氧源

。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务

。8根独立源管线，*多加载12个前驱体源

重量： 2000 kg

尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm

选件： PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。

验收标准： 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺