万华化学

推荐嗨!我是有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫!

中国粉体网讯 近日,国家知识产权局信息显示,万华化学集团电子材料有限公司取得一项名为“一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用”的专利,能够赋予抛光垫更均匀的抛光速率。来源:国家知识产权局化学机械抛光(Chem[更多]

资讯 抛光研磨抛光抛光垫化学机械抛光万华化学
|
中国粉体网
717 点击717
+ 加载更多