中国粉体网讯 近日,国家知识产权局信息显示,万华化学集团电子材料有限公司取得一项名为“一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用”的专利,能够赋予抛光垫更均匀的抛光速率。来源:国家知识产权局化学机械抛光(Chem[更多]
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