中国粉体网讯 抛光垫表面结构特性(粗糙度、沟槽形状等)、材质(硬度、弹性模量等)是影响CMP的重要因素,抛光垫直接影响晶片的抛光效果。抛光垫表面结构特性抛光垫表面微形貌抛光垫通常表面充满微孔,可用于储存运输抛光液和磨料颗粒,[更多]
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