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产品详情
IB-19530CP 截面样品制备装置
为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。
· 主要技术指标
离子加速电压 | 2～8kV |
刻蚀速率 | 500μm/h |
承载样品的**尺寸 | 11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度) |
样品摆动功能 | 刻蚀过程中，样品自动摆动±30° (**：第4557130号) |
自动加工开始模式 | 达到设定的压力值后可自动开始加工。 |
间歇加工模式 | 脉冲控制离子束流照射，可以抑制加工时产生的热量。 |
精抛加工模式 | 主加工结束后，自动开始精抛加工。 |
· *产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。
产品特点：
为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。
根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。
◇ 高通量
通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能，不需花费时间等待加工开始，短时间内就能刻蚀。
◇ 自动加工程序
快速加工和精抛加工可以程序化，短时间内就能制备出高质量的截面。此外，利用间歇加工模式，还能抑制加工温度。
◇ 设置简单
功能性样品座采用模块化设计，在光学显微镜（另售）下也能调整加工位置。
◇ 多用途样品台
通过选择各种功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。
◇ 高耐久性遮光板
遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右，能支持高速率加工和长时间刻蚀。
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