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日本JEOL X射线荧光光谱仪JSX-1000S
JSX-1000S型X射线荧光光谱仪采用触控屏操作、提供更加简便迅速的元素分析。具备常规定性、定量分析(FP法?检量线法)、RoHS元素筛选功能等。 利用丰富的硬件/软件选配件、还能进行更广泛的分析。
产品规格
FIB
检测元素范围 | Mg~U |
---|---|
F~U(选配) | |
X射线发生装置 | 5~50 kV , 1mA |
靶材 | Rh |
一次滤波器 *多9种 自动交换 | 标准:OPEN, ND, Cr, Pb, Cd |
选配:Cl, Cu, Mo, Sb | |
准直器3种 自动交换 | 0.9mm, 2mm, 9mm |
检测器 | 硅漂移检测器(SDD) |
样品室尺寸 | 300mmφ×80mmH |
样品室气氛 | 大气 / 真空(选配) |
样品室观察机构 | 彩色摄像机 |
操作用电脑 | Windows ® 触控屏 台式电脑 |
分析软件(标准) | 定性分析(自动定性、KLM标记、和峰显示、谱图检索) 定量分析(块状FP法、检量线法) RoHS分析解决方案(Cd, Pb,Cr, Br, Hg) 简易分析解决方案 报告制作软件 |
分析软件(选配) | 薄膜FP法分析软件 关联滤波器FP法分析软件 |
日常检查软件(标准) | 管球升压、能量校正、强度校正 |
Windows ® 为美国微软公司在美国或其它国家的注册商标或商标。
主要附件
样品室真空排气单元
多样品自动交换单元
滤波器组
滤膜FP 法分析软件
薄膜FP 法分析软件
和峰消除软件
镍镀层筛选解决方案
锡镀层筛选解决方案
氯元素筛选解决方案
产品特点:
· JIB-4000聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。被加速了的镓离子束经聚焦照射样品后,就能对样品表面进行SIM观察 、研磨,沉积碳和钨等材料。还可以为TEM成像制备薄膜样品,为观察样品内部制备截面样品。通过与SEM像比较,SIM像能清楚地显示出归因于晶体取向不同的电子通道衬度差异,这些都非常适合于评估多层镀膜的截面及金属结构。
· 高性能FIB镜筒
· JIB-4000采用高性能的FIB镜筒,**离子束流高达 60 nA,能进行快速研磨。大电流下的快速加工尤其适合于大面积的研磨,制备100 μm以上用来观察的截面非常轻松。
· 用户友好的FIB装置
· JIB-4000高性能的 FIB镜筒具有出色的可操作性。用户友好的外观和GUI设计,建立了使用方便的FIB系统。即使不是FIB专家也能够轻松操作,此外,该装置小巧紧凑为业界*小体积,安装地点的选择范围很大。
· 双样品台
· JIB-4000标配的块状样品马达驱动样品台可供块状样品使用,此外还可以增配侧插式测角台(TEM用Tip-on 样品架可以直接插入)。块状样品马达驱动样品台能观察整个表面为20 mm x 20 mm的块状样品,样品交换可以通过气锁式系统快速进行。侧插式测角台与JEOL的TEM系统使用的相同,因此Tip-on (尖端上可以安装附件的)样品架与JEOL的TEM系统可以通用,这样,FIB加工和TEM观察的反复交替就能很容易地进行。
· 丰富的附件
· 有各种附件可用来支持JIB-4000的操作。包括对电路修改应用特别有效的CAD导航系统,对特殊形状加工有效的矢量扫描系统等。通过给JIB-4000安装适当的附件,该系统可以支持样品制备以外的应用。
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- 产品分类
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- PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机
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- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
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- N-TEC全自动真空压合机BW228-4FA
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- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- 英国HHV真空镀膜系统Auto500 GB
- 日本JEOL能谱仪,JED-2300,JED-2300F
- 美国Nano-master原子层沉积机NLD-4000
- 美国D&S发射率测量仪AE1/RD1
- 英国HHV多功能镀膜机Auto306
- URE-2000A型紫外单面光刻机