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日本JEOL X射线荧光光谱仪JSX-1000S
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日本
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日本JEOL X射线荧光光谱仪JSX-1000S

JSX-1000S型X射线荧光光谱仪采用触控屏操作、提供更加简便迅速的元素分析。具备常规定性、定量分析(FP法?检量线法)、RoHS元素筛选功能等。  利用丰富的硬件/软件选配件、还能进行更广泛的分析。

  • 产品规格

  • FIB

检测元素范围Mg~U
F~U(选配)
X射线发生装置5~50 kV , 1mA
靶材Rh
一次滤波器 *多9种 自动交换标准:OPEN, ND, Cr, Pb, Cd
选配:Cl, Cu, Mo, Sb
准直器3种 自动交换0.9mm, 2mm, 9mm
检测器硅漂移检测器(SDD)
样品室尺寸300mmφ×80mmH
样品室气氛大气 / 真空(选配)
样品室观察机构彩色摄像机
操作用电脑Windows ® 触控屏 台式电脑
分析软件(标准)定性分析(自动定性、KLM标记、和峰显示、谱图检索)

定量分析(块状FP法、检量线法)

RoHS分析解决方案(Cd, Pb,Cr, Br, Hg)

简易分析解决方案

报告制作软件

分析软件(选配)薄膜FP法分析软件

关联滤波器FP法分析软件

日常检查软件(标准)管球升压、能量校正、强度校正
  • Windows ® 为美国微软公司在美国或其它国家的注册商标或商标。

  • 主要附件

  • 样品室真空排气单元

  • 多样品自动交换单元

  • 滤波器组

  • 滤膜FP 法分析软件

  • 薄膜FP 法分析软件

  • 和峰消除软件

  • 镍镀层筛选解决方案

  • 锡镀层筛选解决方案

  • 氯元素筛选解决方案

产品特点:

· JIB-4000聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。被加速了的镓离子束经聚焦照射样品后,就能对样品表面进行SIM观察 、研磨,沉积碳和钨等材料。还可以为TEM成像制备薄膜样品,为观察样品内部制备截面样品。通过与SEM像比较,SIM像能清楚地显示出归因于晶体取向不同的电子通道衬度差异,这些都非常适合于评估多层镀膜的截面及金属结构。

· 高性能FIB镜筒

· JIB-4000采用高性能的FIB镜筒,**离子束流高达 60 nA,能进行快速研磨。大电流下的快速加工尤其适合于大面积的研磨,制备100 μm以上用来观察的截面非常轻松。

· 用户友好的FIB装置

· JIB-4000高性能的 FIB镜筒具有出色的可操作性。用户友好的外观和GUI设计,建立了使用方便的FIB系统。即使不是FIB专家也能够轻松操作,此外,该装置小巧紧凑为业界*小体积,安装地点的选择范围很大。

· 双样品台

· JIB-4000标配的块状样品马达驱动样品台可供块状样品使用,此外还可以增配侧插式测角台(TEM用Tip-on 样品架可以直接插入)。块状样品马达驱动样品台能观察整个表面为20 mm x 20 mm的块状样品,样品交换可以通过气锁式系统快速进行。侧插式测角台与JEOL的TEM系统使用的相同,因此Tip-on (尖端上可以安装附件的)样品架与JEOL的TEM系统可以通用,这样,FIB加工和TEM观察的反复交替就能很容易地进行。

· 丰富的附件

· 有各种附件可用来支持JIB-4000的操作。包括对电路修改应用特别有效的CAD导航系统,对特殊形状加工有效的矢量扫描系统等。通过给JIB-4000安装适当的附件,该系统可以支持样品制备以外的应用。

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