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日本JEOL圆形电子束光刻机 JBX-8100FS
· JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
· **高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。
**高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。
节省空间
标准的设备占地面积为4.9m(W)×3.7m(D)×2.6m(H),比以往机型占用空间更小,外形更加紧凑美观。
低功耗
正常工作时的功耗约为3kVA,仅需以往机型耗电量的1/3。
高产能
具备高分辨率和高速两种刻写模式,非常适用于超微细加工以及批量生产。该设备减少了刻写过程中的无谓耗时,并将扫描频率提升至业界***水准的125MHz (以往机型的1.25~2.5倍),使其具备更高的生产能力。
机型
JBX-8100FS系列设有G1(基本版)和G2(全配版)两种机型。G1机型装机后也可进行升级,使其支持更高的应用需求。
新功能
安装光学显微镜(选配)后,在避免光刻胶感光的的同时可对材料上的图形进行确认。设备还配备了信号塔(标配),实现了视觉范围内的系统运行状况监控。
激光定位分辨率
采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪,对样品台位置进行高精度的量测控制。
系统控制
配备了Linux®系统,图形用户界面使操作更加简单,便于初学者使用。数据准备程序支持Linux®和Windows®
主要技术指标
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类
- 日本JEOL粉末装置TP-99010FDR
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- N-TEC全自动真空压合机BW228-4FA
- 德Iplas微波等离子化学气相沉积MPCVD
- P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN生产型原子层沉积机
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- 英国HHV真空镀膜系统Auto500 GB
- 美国Nano-master原子层沉积机NLD-4000
- 日本JEOL能谱仪,JED-2300,JED-2300F
- 英国HHV多功能镀膜机Auto306
- 美国D&S发射率测量仪AE1/RD1
- 芬兰PICOSUN原子层沉积机P-300S Pro ALD