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日本JEOL截面样品制备装置IB-19520CCP 
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日本JEOL截面样品制备装置IB-19520CCP 

IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却,能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下,也能将样品快速冷却、恢复到室温,并且可以拆卸。配有传送机构,在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程。

产品规格:

离子加速电压

2 ~ 8 kV

离子束直径

500 um( FWHM)

研磨速率

500 um(两小时的平均值、8 kV、硅材质换算、突出量:100 um)

样品架冷却达到的温度

-120 ℃

样品冷却持续时间

8小时以上

制冷箱容量

约1升

承载样品的**尺寸

11mm(长) × 8mm(宽)× 3mm(厚)

样品台移动范围

X轴:±6mm、Y轴:±2.5mm

固定样品方法

夹式

样品加工摆角

±30°

加工观察用相机的倍率

约20~100倍(6.5寸显示器上)

机械泵: 150 mm(宽) × 427 mm(长) × 230 mm(高)、约16 kg

空气隔离系统

转移舱

空气隔离法

将舱内设定成氩气气氛,盖上转移舱盖子,将样品封在舱里。

操作方法

触控屏、6.5寸显示器

使用气体

氩气(用质量流量控制器控制流量)

压力测试

潘宁真空计

主抽真空系统

涡轮分子泵

辅助抽真空系统

机械泵

尺寸、重量

主机:约670mm (宽) × 720mm(长) × 530mm(高)、约73kg

机械泵:约150 mm (宽) × 430 mm(长) × 230 mm(高)、约16kg

选配件

大型旋转样品架(IB‐11550LSRH)、(IB‐11550LSRH) 

基座样品架 (IB‐11560MBSH) 

大型样品架(IB-11570LSH)  

喷碳样品架(IB-12510CCH)

电源

单相100~120 V±10%、50/60 Hz、0.6 kVA

接地线

独立地线(100 Ω以下)

氩气

使用压力:0.15±0.05 MPa(1.0 ~ 2.0 kg/cm2)

纯度99.9999%以上(氩气、气瓶及调压器由客户自备)

金属配管连接口:JISB0203 RC1/4

室温

15~25 ℃

湿度

60%以下

产品特点:

★ 冷却的效果  样品:镀锌钢板

· 可提供500μm/h(8KV/2小时的平均值)的研磨速率。

· ※ 通常加工(无冷却)时,铁和锌的接合面上能够观察到间隙,而冷却加工时则没有间隙

·★ 使用温度控制系统(选配件)冷却  样品:硅晶片接合面

· ※ 常规加工由于热损伤造成粘合剂变形,出现了很大的间隙。 -150 ℃时,冷却过度,能观察到胶粘剂和硅晶片研磨面的接合面上出现了间隙,但通过温度控制冷却则没有间隙。

·★ 合理利用间歇加工、冷却功能和温度控制冷却功能可支持各种样品的制备

·

· ★ 进程监控功能

· 截面加工状态可通过CCD相机实时监控,倍率还可调整。

·★ 防止充放电的喷镀功能

· 备有离子束溅射功能(选配项)

可以喷涂颗粒感良好的薄涂层。

*适合于象EBSD等需要花样识别等情况。

· ★ 平面离子减薄样品架

· 以小角度的离子束低角度照射样品,达到清除表面污垢、平滑表面等效果。

另外也非常适合于选择性蚀刻。

· ★ 截面样品制备单元

· 安装在平面离子减薄样品架上使用。该单元可用于在旋转样品的同时进行离子束加工。

可以用来制备象多孔质材料、粉末、纤维等容易出现加工条纹的样品的截面。

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