认 证:工商信息已核实
访问量:298460
瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机
源自IBM研发成果
NanoFrazor纳米3D结构直写机的问世,源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心,是其在纳米加工技术的研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机**将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。
NanoFrazor采用直径为5nm的探针,通过静电力精确控制实现直写3D高精度直写,并通过悬臂一侧的热传感器实现实时的形貌探测。相对于其他制备技术如电子束曝光/光刻技术(EBL), 聚焦离子束刻蚀(FIB)有以下特点:
■ 3D纳米直写能力
高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)
高速直写 20 mm/s 与EBL媲美
■ 无需显影,实时观察直写效果
形貌感知灵敏度0.1nm
样品无需标记识别,多结构套刻,对准精度 5nm
■ 无临近效应
高分辨,高密度纳米结构
■ 无电子/离子损伤
高性能二维材料器件
■ 区域热加工和化学反应
多元化纳米结构改性
■ 大样品台
100mm X 100mm
新产品发布:NEW!! NanoFrazor Scholar --小面积直写
■ 3D纳米直写能力
高直写精度 (XY: 30nm, Z: 1nm)
高速直写 10 mm/s
■ 无需显影,实时观察直写效果
形貌感知灵敏度0.1nm
样品无需标记识别,多结构套刻,对准精度 10 nm
■ 无临近效应
高分辨,高密度纳米结构
■ 无电子/离子损伤
高性能二维材料器件
■ 区域热加工和化学反应
多元化纳米结构改性
■ 小样品台
30mm X 30mm
该技术自问世以来已经多次刷新了世界上*小3D立体结构的尺寸,创造了世界上*小的马特洪峰模型,*小立体世界地图,*小刊物封面等世界记录。
独特的直写与反馈流程
。PPA(聚苯二醛) 直写胶涂敷在样品表面。
。背热式直写探针,微区电阻式加热针尖。与针尖接近的PPA受热瞬间分解,周围部分由于PPA热导率低而不受影响。
。热针震动模式直写,直写时探针加热,每次下针幅度受静电力控制,垂直精度 1 nm,从而写出3D图形。
。冷针接触模式扫描,回程扫描时探针冷却,由侧壁的热感应器探测样品高度变化(精度0.1nm), 获得样品形貌。反馈数据修正下一行直写。
独有的直写针尖设计
普通的AFM针尖无法满足上述NanoFrazor直写流程的需求,因此NanoFrazor所用针尖是由IBM专门研发设计的。该针尖具有两个电阻加热区域,针尖上方的加热区域可以加热到1000oC。 第二处加热区域作为热导率传感器位于侧臂处,其能感知针尖与样品距离的变化,精度高达0.1 nm。因此在每行直写进程结束后的回扫结构时,并不是通过针尖 起伏反馈形貌信息,而是通过热导率传感器感应形貌变化,从而实现了比AFM快1000余倍的扫描速度,同避免了针尖的快速磨损消耗。
NanoFrazor技术特点
其他功能
● 纳米颗粒有序定位排列
● 纳米局部化学反应诱导
● 表面化学图案、结构生成纳米颗粒有序定位排列
氧化石墨烯的定位还原
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类
- 日本JEOL粉末装置TP-99010FDR
- PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机
- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- 德国Sentech集成多腔等离子刻蚀和沉积机
- 德国Moeller光学动/静态接触角仪/界面测量仪SL150
- P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN生产型原子层沉积机
- 德Iplas微波等离子化学气相沉积MPCVD
- N-TEC全自动真空压合机BW228-4FA
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- 英国HHV真空镀膜系统Auto500 GB
- 日本JEOL能谱仪,JED-2300,JED-2300F
- 美国Nano-master原子层沉积机NLD-4000
- 美国D&S发射率测量仪AE1/RD1
- 英国HHV多功能镀膜机Auto306
- 日本JEOL电子自旋共振谱仪JES-X3