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PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机
PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机的图片
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芬兰
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芬兰PICOSUN 生产型原子层沉积机P-200S Pro ALD

技术参数

衬底尺寸和类型:

。50 – 200 mm /单片

。156 mm x 156 mm 太阳能硅片

。150 mm x 150 mm 显示面板

工艺温度:50 - 500 °C , 可选更高温度

基片传送选件

。气动升降(手动装载)

。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现

。25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现

标准: SEMI S2 认证(认证中)

前驱体:

液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体(*多4路气体):

。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务

。6根独立源管线,*多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)

重量 :790 kg

尺寸 :(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

可选件 :集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。

验收标准 :。标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,

。其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:

- 不均匀性

- 颗粒物含量

- 重金属污染

- 电学性能

一个PICOPLATFORM™ 200真空集群系统由两台PICOSUN™ P-200S ALD设备组成,带等离子体源PICOPLASMA™。

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